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沈川; 刘仰融; 孙瑞赟; 卜顺栋; 陈路; 何力;
红外材料与器件重点实验室;
国科大杭州高等研究院;
碲镉汞; Hg空位; 钝化层; 热退火;
机译:原位热退火对CdTe缓冲层上生长的Hg0.7Cd0.3Te外延层的结构,光学和电学性质的影响
机译:金属 - 绝缘体 - 半导体结构的电容 - 电压特性退火对CDTE / HGCDTE钝化界面电神法性能的影响
机译:不同钝化层对长波HGCDTE栅极控制二极管RV特性的影响
机译:通过HWCVD,RF PECVD和VHF PECVD沉积的氢化非晶硅层的晶体硅表面钝化:热退火对少数群体寿命的影响
机译:静水压力对金空位中淬火后退火的影响。
机译:快速热退火和不同氧化剂对原子层沉积LaxAlyO纳米层压膜性能的影响
机译:退火对n型晶体(100)硅表面的非晶硅钝化影响的热,结构和电学研究
机译:分子束外延生长HgCdTe / si层的非原位热循环退火。
机译:在Cd / Hg气氛中通过退火钝化HgCdTe结二极管
机译:Cd / Hg气氛中的HgCdTe结二极管钝化/钝化
机译:Cd / Hg气氛中HgCdTe结二极管的钝化
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