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赵倩; 林启民; 谢程超; 杨越;
内蒙古自治区白云鄂博矿多金属资源综合利用重点实验室,内蒙古包头014010;
内蒙古科技大学数理与生物工程学院,内蒙古包头014010;
TiO2薄膜; 磁控溅射; 靶基距;
机译:厚度和微观结构对RF磁控溅射沉积Mg掺杂CuCrO_2铜铁矿薄膜热电性能的影响
机译:CR掺杂对来自粉末靶射溅射TiO2薄膜的结构,光电和光催化性能的影响
机译:W-Ti靶组成对反应溅射制备WO3-TiO2薄膜表面化学和电子结构的影响
机译:薄膜厚度对TiO2薄膜结构和光学性质的影响
机译:氮和碳共掺杂的纳米结构TiO2薄膜:合成,结构表征和光电性能。
机译:SiNx扩散阻挡层厚度对溶胶-凝胶浸涂和反应磁控溅射获得的TiO2薄膜的结构性能和光催化活性的影响
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。
机译:制造具有几纳米厚度的薄膜组件以加速激光诱导的离子的毫米级薄膜,使用相同厚度的薄膜靶的制造方法及其制造方法
机译:旋转式切刀靶基,旋转式切刀靶,涂层安装,生产旋转式切刀靶的方法,靶基连接装置以及将旋转式靶基设备连接以将安装溅射到靶基支持的方法
机译:旋转式切刀靶基,旋转式切刀靶,涂层安装,生产旋转式切刀靶的方法,靶基连接装置以及将旋转式靶基设备连接以将安装溅射到靶基支架的方法
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