靶基距对脉冲激光沉积β-FeSi_2薄膜质量的影响

马玉英; 刘爱华; 任现坤

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靶基距对脉冲激光沉积β-FeSi_2薄膜质量的影响

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常用的分子束外延、粒子束沉积法难以获得均匀、致密性好的单一相β-FeSi2薄膜,利用脉冲激光沉积及热退火处理法在P型Si(100)基片上制备了均匀的单一相β-FeSi2薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、原子力显微镜及红外光谱仪研究了靶基距对β-FeSi2薄膜的结构、组分、结晶质量、表面形貌及光吸收特性的影响。结果表明:随着靶基距的增加,薄膜的晶化程度先变差后增强再变差,晶粒尺寸先减小后增大再减小,颗粒分布均匀性先变好后变差;表面粗糙度先减小后增大;靶基距为40 mm时,β-FeSi2薄膜的结晶度较高,颗粒大小均匀、趋于球形化,薄膜致密性较好,粗糙度较低,对红外光的吸收较好。

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来源
《材料保护》 |2014年第1期|31-33|共4页
作者
马玉英; 刘爱华; 任现坤;
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作者单位

山东凯文科技职业学院;

山东师范大学物理与电子科学学院;

山东力诺太阳能电力股份有限公司;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类高速流体加工设备及其加工;
关键词
脉冲激光沉积; β—FeSi; 薄膜; 靶基距; 结晶质量; 光吸收特性;

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