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机译:靶距到衬底距离对脉冲激光沉积Y_2SiO_5:Ce〜(3+)薄膜材料性能的影响
Univ Free State Dept Phys QwaQwa Campus Private Bag X13 ZA-9866 Phuthaditjhaba South Africa;
机译:靶距对衬底距离对脉冲激光沉积生长Y掺杂BaZrO3Th薄膜性能的影响
机译:靶距到衬底距离对脉冲激光沉积生长Y掺杂BaZrO_3薄膜的性能的影响
机译:脉冲和激光沉积的Y_2SiO_5:Tb〜(3+)薄膜荧光粉在平面和波纹石英玻璃基板上的发光
机译:靶衬底距离对脉冲激光沉积制备的P-FeSi2膜表面形态和性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:脉冲激光沉积制备6H-SiC(0001)衬底上VO2薄膜的增强的相变特性
机译:通过脉冲激光沉积制备的6H-SiC(0001)衬底上的VO2薄膜的增强相变性