靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响

王成伟; 马军满; 陈建彪

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靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响

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以国产脉冲激光沉积设备(PLD-Ⅲ型)在玻璃衬底上沉积Ti O2薄膜为例,研究了PLD法制膜过程中靶衬间距对薄膜均匀性的影响.实验过程中,以Ti O2陶瓷片作为靶材,玻璃作为衬底,保持其他工艺条件(如单脉冲能量、脉冲频率、沉积脉冲总数、衬底温度等)不变,专门考察了不同靶衬间距下,Ti O2薄膜在整个衬底台平面区域的沉积分布状况.结果表明,按样品的表观灰度划分,薄膜沉积的相对均匀区可分为2～3个轴对称区域,分别对应不同的沉积速率和厚度;在一定范围内调节靶衬间距(3.00～7.00 cm),可使高速率沉积区逐渐由轴对称的圆环状变为中心大圆斑(直径约2.20 cm).结合PLD沉积原理与靶衬之间的几何关系,分析了导致上述结果的机理.

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来源
《西北师范大学学报：自然科学版》 |2010年第3期|39-43|共5页
作者
王成伟; 马军满; 陈建彪;
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作者单位

西北师范大学物理与电子工程学院;

西北师范大学极端环境原子分子物理实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;激光的应用;
关键词
脉冲激光沉积(PLD); 靶衬间距; 均匀性;

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