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等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构

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摘要

利用X射线衍射(XRD)和X光电子能谱(XPS)等技术对射频-直流-等离子化学气相沉积(RF-DC-PVCD)在钢基体上Si-B-N复合薄膜的组成和结构进行分析和研究;结果表明,通过给试样基体加一适当的直流负偏压,得到含有显著六方氮化硼(h-BN)、立方氮化硼(c-BN)结晶相的Si-B-N薄膜.

著录项

来源
《分析测试学报》 |2002年第2期|83-85|共3页
作者
于翔; 于俊峰; 王成彪;
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作者单位

中国地质大学,工程技术学院,北京,100083;

中国地质大学,工程技术学院,北京,100083;

中国地质大学,工程技术学院,北京,100083;

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正文语种 chi
中图分类复合材料;
关键词
Si-B-N复合薄膜; 负偏压; 结构; 组成;

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