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蒋生蕊; 彭栋梁; 孙文红; 张承理;
兰州大学物理系;
溅射; 镉锡合金; 靶; 导电薄膜; 沉积;
机译:使用Ti-Nb合金靶通过反应性直流溅射沉积的透明Nb掺杂TiO_2导电薄膜,可通过阻抗反馈系统精确地控制过渡区域
机译:射频磁控溅射使用高质量陶瓷靶沉积Nb掺杂的ZnO透明导电薄膜的性能
机译:反应性磁控溅射从金属靶上透明导电的ZnO薄膜
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:非反应性射频磁控溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的缺陷-导电关系的制备与表征
机译:采用射频溅射法制备高性能镉铟透明导电薄膜
机译:薄膜晶体管,薄膜晶体管基板,生产相同薄膜的过程,使用相同薄膜的液晶显示以及相关的设备和过程;靶,溅射靶,透明导电膜以及使用该透明膜的相关设备和过程
机译:在有机LED显示器中用于生产透明导电电极的基板上沉积透明导电铟锡氧化物层包括使用铟锡氧化物靶的组合HF / DC溅射
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