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射频反应性溅射Cd—Sn合金靶沉积透明导电Cd_2SnO_4薄膜

         

摘要

近年来,透明导电 Cd_2SnO_4薄膜以其在可见光区域好的透明性(平均透光率达90%)和高的导电性(电阻率约为10^(-6)Ω·m)而受到广泛重视。尤其是它在用于光电子和太阳能转换装置中的透明电极等方面具有诱人的应用前景。采用射频溅射热压多晶Cd_2SnO_4靶和直流反性应溅射 Cd—Sn 合金靶等方法沉积

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