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CeO2质点对Al2O3型氧化膜和膜/基体界面的原子结合能的影响

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采用ＳＩＭＳ测定Ａｌ，Ｎｉ等二次离子的束流强度与阻止电压曲线新技术，研究了ＣｅＯ２对１１００℃恒温氧化条件下形成的Ａｌ２Ｏ３型氧化膜和膜／基体界面处的原子结合能的影响，并结合添加ＣｅＯ２增加了原子间结合能的实验结果，分析了ＣｅＯ２影响Ａｌ２Ｏ３氧化膜生长动力学的微观机制。

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来源
《材料工程》 |1995年第3期|23|共1页
作者
马信清;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类氧化法;
关键词
CeO2; Al2O3; 氧化膜; 原子结合能; 腐蚀; 合金;

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