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新型硅氮烷先驱体的合成和表征

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采用ＭｓＳｉＨＣｌ２和Ｍｅ（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＣｌ２共氨解制备出流动性含Ｓｉ－Ｈ和Ｓｉ－ＣＨ＝ＣＨ２的低分子硅氮烷，结果表明Ｈ２ＰｔＣｌ６（脱水）和ＤＣＰ是合适的硅氢化交联的催化剂和双键交联的引发剂，交联产物在程序控温的管式炉中裂解，得到高的陶瓷产率（〉７４％ｗｔ）。

著录项

来源
《国防科技大学学报》 |1997年第6期|113-117|共5页
作者
胡海峰; 陈朝辉;
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作者单位

国防科技大学材料科学与应用化学系;

国防科技大学材料科学与应用化学系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类基础理论;
关键词
硅氮烷; 活性基团; 陶瓷; 合成; 表征; 先驱体法;

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