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FTW150K高比容钽粉研制钽电容器电介质膜形成工艺的研究

         

摘要

研究FTW150K高比容钽粉研制钽电解电容器电介质膜的形成工艺.用例试方法分析,讨论在容量、损耗参数引出难和形成工艺不稳定条件下,钽电解电容器的形成电压、形成电流及形成温度等对电介质膜的影响.结果表明,形成致密的电介质氧化膜是容量引出的关键,当形成电压为额定电压的4~5倍、形成电流为1.76μA时为该实验的最佳工艺条件.

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