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多孔TiO2/FTO纳米有序阵列膜的可控生长研究

     

摘要

用脉冲激光沉积(PLD)技术在导电玻璃(FTO)衬底上沉积Ti膜,采用电化学阳极氧化方法,细致研究了FTO衬底上多孔TiO2纳米有序阵列膜的可控生长.结果表明,恰当的阳极电压对形成高度有序、孔径均匀的多孔TiO2/FTO阵列膜至关重要;通过优化的工艺参数,借助阳极氧化过程中各阶段电流-时间(I-t)曲线的准确判断,可实现对多孔TiO2阵列膜生长过程的有效控制,制备出高质量的多孔TiO2/FTO阵列膜.

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

    中国科学院,兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;

    西北师范大学,极端环境原子分子物理实验室,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,极端环境原子分子物理实验室,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,极端环境原子分子物理实验室,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070;

    西北师范大学,极端环境原子分子物理实验室,甘肃,兰州,730070;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 钛副族(ⅣB族金属元素);
  • 关键词

    多孔TiO2/FTO纳米有序阵列膜; 阳极氧化; 可控生长;

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