低温等离子体轰击法对薄膜高分子聚合体表面特性影响的研究

魏建华; Masao Yoshinari; 马威; 张浚睿; 封兴华; 刘宝林; Yutaka Oda

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低温等离子体轰击法对薄膜高分子聚合体表面特性影响的研究

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目的:研究使用氧和氮等离子体轰击法对六甲基二硅氧烷(硅醚)聚合体表面特性的影响.方法:使用薄膜等离子体聚合法在圆形盖玻片表面生成六甲基二硅氧烷薄膜聚合体,然后用低温氧和氮等离子体轰击聚合体表面,测量不同轰击时间对薄膜聚合体表面润湿性、粗糙度、表面形貌的影响,用XPS检测表面基团组成的变化. 结果:六甲基二硅氧烷薄膜聚合体表面经过氧及氮低温等离子体轰击后,随着轰击时间的延长,聚合体表面接触角显著降低,XPS结果表明O/C比例显著上升,显示COOH基团增多.结论:氧和氮等离子体轰击法可以明显增加六甲基二硅氧烷薄膜聚合体表面亲水基团的含量,表现为表面润湿性显著增高.

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来源
《实用口腔医学杂志》 |2008年第4期|525-528|共4页
作者
魏建华; Masao Yoshinari; 马威; 张浚睿; 封兴华; 刘宝林; Yutaka Oda;
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作者单位

西安第四军医大学口腔医学院颌面外科,710032;

日本东京齿科大学;

第四军医大学口腔医学院口腔种植科;

西安第四军医大学口腔医学院颌面外科,710032;

西安第四军医大学口腔医学院颌面外科,710032;

第四军医大学口腔医学院口腔种植科;

日本东京齿科大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类牙科材料学;
关键词
表面特性; 等离子体聚合物; 接触角; 等离子体轰击法;

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