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卢殿通; P.L.F.Hemment;
北京师范大学低能核物理研究所;
DepartmentofElectronicandElectricalEngineering;
SIMOX薄膜; 红外光谱; 非破坏性测量; 薄膜厚度;
机译:用THz光谱法对氧化铈薄膜厚度进行非破坏性测量研究
机译:红外光谱测量方法1基础知识和最新方法第二部分物种测量方法5th 7B。薄膜/界面外反射测量方法
机译:红外光谱测量方法1基础知识和最新方法第二部分各种测量方法5th 7C。金属基板上的薄膜的反射吸收测定方法和偏振调制法反射吸收测定方法
机译:一种快速非破坏性方法,用于确定掩埋SiO {Sub} 2层和Simox薄膜表面Si层的厚度均匀
机译:光谱椭偏仪作为薄膜中光学,电学和结构特性的多功能,非接触式探针:在光伏中的应用
机译:校正:G. Papari等。非晶WSe2和MoSe2薄膜的太赫兹光谱。材料2018111613
机译:从红外反射光谱测定硒和三砷化砷非晶薄膜的光学常数
机译:非破坏性薄膜厚度/质量测量方法和装置
机译:薄膜厚度的测量装置,薄膜厚度的测量方法和非暂态计算机存储介质
机译:物体的非破坏性模式的近红外光谱分析装置,用于捕获测量对象的物理化学特性,而不会通过使用近红外射线破坏测量对象
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