低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征

施凌云; 王林军; 蒋丽雯; 刘健敏; 夏义本

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低粗糙度金刚石薄膜的制备及其光学性能的表征

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摘要

采用热丝化学气相沉积(HFCVD)方法,在反应气压、衬底温度一定的情况下,通过改变碳源浓度以制备低粗糙度金刚石薄膜.扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)测试结果表明,随着碳源浓度适当增加(从2%增加到3%),金刚石薄膜表面晶粒尺寸减小到纳米量级,平均粗糙度从45 nm降低到21 nm,同时光学透过率下降.椭圆偏振光谱拟合结果显示,随着碳源浓度的增加,薄膜折射率n稍有偏离理想值.拉曼散射光谱显示随着碳源浓度的增加,薄膜中非金刚石相含量增加,一定程度上影响了薄膜的光学质量.结果表明,在表面粗糙度相差不大的情况下,薄膜的质量决定了其光学性质.

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来源
《上海大学学报：自然科学版》 |2007年第3期|320-324|共5页
作者
施凌云; 王林军; 蒋丽雯; 刘健敏; 夏义本;
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作者单位

上海大学材料科学与工程学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
金刚石薄膜; 碳源浓度; 表面粗糙度; 光学性质;

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