反应磁控溅射法制备TiO2薄膜

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• 来源
  《绍兴文理学院学报》 |2007年第8期|44-46,50|共4页
• 作者

  谭永胜; 龚恒翔; 方泽波;

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• 作者单位

  绍兴文理学院,物电系,浙江,绍兴312000;

  绍兴文理学院,物电系,浙江,绍兴312000;

  绍兴文理学院,物电系,浙江,绍兴312000;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;
• 关键词

  TiO2薄膜; 反应磁控溅射; 沉积条件;