SiO_2两步热氮化膜的特性研究

黄美浅; 李观启; 刘百勇

首页> 中文期刊> 《华南理工大学学报：自然科学版》 >SiO_2两步热氮化膜的特性研究

SiO_2两步热氮化膜的特性研究

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

本文提出的用 O_2/N_2进行中间氧化(退火)的两步热氮化工艺,能将 SiO_xN_y-Si 系统的界面态密度和固定电荷密度减少到可与干氧氧化膜相比拟的程度,且保持了 SiO_xN_y 膜优异的介电特性,是一种比再氧化工艺更优越的新技术。结果还表明,随着 O_2/N_2处理时间的增长,SiO_xN_y-Si 系统的界面态密度单调地减小;但平带电压的绝对值在初始阶段增大,然后再单调减小。

著录项

来源
《华南理工大学学报：自然科学版》 |1991年第3期|71-75|共5页
作者
黄美浅; 李观启; 刘百勇;
展开▼
作者单位

华南理工大学物理系;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN470.55;
关键词
SiO2; 热氮化; 氮氧化膜; 界面态;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 快速热氮化SiO_2膜陷阱特性的研究 [J] . 陈蒲生 ,杨光有 ,刘百勇 . 半导体学报：英文版 . 1990,第6期
2. SiO2两步热氮化膜的特性研究 [J] . 黄美浅 ,李观启 ,刘百勇 . 华南理工大学学报（自然科学版） . 1991,第003期
3. 快速热氮化超薄SiO_2膜的氮分布和氮化机理的研究 [J] . 冯文修 ,陈蒲生 ,黄世平 . 半导体学报：英文版 . 1997,第4期
4. 用俄歇能谱研究热氮化SiO_2膜中氮原子的扩散 [J] . 刘小阳 ,陈蒲生 ,王川 . 华南理工大学学报：自然科学版 . 1995,第12期
5. 用快速热工艺氮化超薄SiO_2膜的研究 [J] . 冯文修 ,陈蒲生 ,黄世平 . 华南理工大学学报：自然科学版 . 1995,第12期
6. 低能离子束辅助沉积作用下氮化硅/氮化钛复相陶瓷多层膜的结构和特性 [C] . 王立铎 . '96中国材料研讨会 . 1997
7. 溶胶—凝胶法制备nc-Si/SiO_2结构的发光特性研究 [A] . 王蓟 . 2002

SiO_2两步热氮化膜的特性研究

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅