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高岭石/N-甲基甲酰胺插层复合物的制备

         

摘要

室温下,通过磁力搅拌制备高岭石/N-甲基甲酰胺(NMF)插层复合物.用XRD、FT-IR、TG-DSC分析插层前后特征基团和结构的变化.结果表明:NMF有机分子进入高岭石层间,在连续搅拌24 h后插层率为92%,层间距由0.71 nm膨胀为1.07 nm,随着反应时间的延长,插层率下降,但是其结构的有序度提高;插层后3696 cm-1、3668 cm-1、3651 cm-1处峰强度变弱,3619 cm-1基本不变,在1638 cm-1和3553 cm-1处出现新的吸收峰;TG-DSC分析表明在145℃左右有机分子分解,512℃左右失去结构水,1000℃左右出现相转变.

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