光刻工艺对大面阵长波碲镉汞芯片性能的影响

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• 来源
  《激光与红外》 |2021年第2期|202-205|共4页
• 作者

  张轶; 牛峻峰; 龚志红; 刘世光; 吴卿; 王成刚;

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• 作者单位

  华北光电技术研究所 北京100015;

  华北光电技术研究所 北京100015;

  空军装备部驻北京地区第七军事代表室 北京100015;

  华北光电技术研究所 北京100015;

  华北光电技术研究所 北京100015;

  华北光电技术研究所 北京100015;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 红外光学器件;
• 关键词

  长波碲镉汞; 接触式光刻; 光刻工艺非均匀性; Matlab仿真;