磁控溅射MgxZn1-xO薄膜的结构与光学性能研究

郭瑞; 李东临; 王怡; 武光明; 邢光建

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利用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积了MgxZn1-xO(x=0～0.2)薄膜.采用X射线衍射仪、紫外-可见光分光光度计和荧光光谱仪研究了Mg掺杂量对MgxZn1-xO薄膜结构与光学性能的影响.XRD图谱表明,MgxZn1-xO薄膜均为六角纤锌矿结构,并且呈现出C轴择优生长特性,当x>0.1时薄膜出现(100)面衍射峰,薄膜的c轴择优生长特性减弱,随着x值的增加,晶格常数c逐渐减小.紫外可见光透射光谱表明,Mg的掺入提高了薄膜在可见光范围内的透过率,同时使薄膜的禁带宽度增大.PL谱分析显示,Mg的掺入使薄膜的紫外发射峰和蓝光发射带发生蓝移,当x=0.1时近带边发射峰与杂质发射的强度比值最高.

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来源
《材料导报》 |2010年第16期|9-11,17|共4页
作者
郭瑞; 李东临; 王怡; 武光明; 邢光建;
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作者单位

北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

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正文语种 chi
中图分类光学性质;
关键词
MgxZn1-xO薄膜; 射频磁控溅射; 透过率; 光致发光谱;

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