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何延春; 吴春华; 邱家稳;
兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室;
DC磁控溅射; WO; 3; 电致变色; 薄膜; 光学带隙;
机译:在DC溅射WO3-y薄膜中电致变色,气致变色和电致变色之间获得最大着色的类比
机译:磁控溅射沉积制备大面积柔性单片ITO / WO3 / Nb2O5 / NiVO chi / ITO电致变色器件
机译:电致变色窗的光学表征和电化学行为使用磁控溅射沉积氧化钨氧化物和(1-x)WO3XTIO2薄膜
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:反应性射频磁控溅射沉积β-WO3薄膜的HRTEM显微结构表征
机译:通过化学交联多功能电致变色能量存储装置:WO3·H2O纳米粒子嵌入式壳聚糖薄膜对无定形WO3薄膜的影响
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
机译:反应性高频磁控溅射制备电致变色镜工作电极双eu三薄膜的方法
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