Sol-gel法制备ZnO:Cd薄膜及性能研究

陈瀚; 邓宏

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Sol-gel法制备ZnO:Cd薄膜及性能研究

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采用Sol-gel法使用旋转涂覆技术在Si(100)基片上生长了ZnO:Cd薄膜.XRD结果表明:ZnO:Cd薄膜具有与ZnO一样的六角纤锌矿结构,随热处理温度的升高,(002)衍射峰强度逐增,FWHM减小,并沿c轴择优取向生长;透射光谱实验表明:以石英为基底,适度掺镉可降低薄膜的禁带宽度Eg,特别是在800℃、8%Cd条件下,Eg=2.80eV,与纯ZnO的禁带宽度3.30eV相比,明显降低了光学禁带;光致发光谱(PL)实验表明:在吸收边附近均有较强的紫外发射峰,且随热处理温度升高呈规律的变化;电阻率测定表明:掺镉使薄膜导电性增强.

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来源
《材料导报》 |2007年第8期|143-145,153|共4页
作者
陈瀚; 邓宏;
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作者单位

电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

四川机电职业技术学院,攀枝花,617000;

电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 X射线、紫外线、红外线;
关键词
ZnO:Cd薄膜; 光致发光; Sol-gel法; 旋涂;

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