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庞世红; 王承遇; 李西平; 刘静维; 唐艳玲;
1. 大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所 2. 秦皇岛耀华玻璃股份有限公司 3. 秦皇岛冶金设计研究总院;
APCVD; TiO2; 晶型转变; 浮法玻璃;
机译:基材温度对APCVD技术制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:溶液流量和基体温度对喷雾热解沉积TiO2薄膜结构和光学性能的影响
机译:沉积时间对面向靶溅射TiO2薄膜结构,光学和形态学性能的影响
机译:使用原位红外光谱法从TEOS和臭氧进行二氧化硅的APCVD过程中热活化边界层内的化学:磷和硼对气相化学的影响。
机译:温度反应对化学浴沉积形成CdSe-TiO2纳米管薄膜的影响以提高光电化学活性
机译:MOCVD法沉积TiO2薄膜的生长参数的影响MOCVD法沉积的TiO2薄膜的生长参数的影响
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。
机译:用于APCVD沉积TIO2的平板输送炉
机译:具有Tio2 / AG / TIO2多层薄膜结构的柔性透明电极及其制造方法
机译:用原子层沉积法将氧化物薄膜浸入到卤化物中的卤化物掺杂源,制造卤剂掺杂物的方法,使用原子沉积法沉积到材料上的氧化物,用原子沉积法沉积的氧化膜,用原子方法沉积的薄膜用卤化物氧化薄膜
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