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宋鹏; 陆建生; 瑚琦; 赵明娟; 杨滨;
昆明贵金属研究所;
昆明650221;
昆明理工大学材料与冶金工程学院;
昆明650093;
薄膜技术; 沉积机理; 计算机模拟技术; 物理气相沉积; 化学气相沉积; PVD; CVD;
机译:薄膜沉积中的阶次和破坏性。计算机模拟
机译:高能原子在Au / Au(001)薄膜沉积中的作用-计算机模拟研究
机译:多组分离子束增强(TiMo)N薄膜沉积的计算机模拟
机译:使用全氮配位的前驱体进行氮化铌和氧氮化物的MOCVD:薄膜沉积和机理研究
机译:用于薄膜沉积的基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)技术的分子能级机理的计算研究。
机译:振动光谱成像技术在农作物和植物的分析监测和表征中的应用和发展
机译:使用全氮配位的前驱物进行氮化铌和氮氧化物的MOCVD:薄膜沉积和机理研究
机译:Y-Ba-Cu-O薄膜沉积和生长的计算机模拟
机译:薄膜沉积机理
机译:光加工装置的应用和发展装置光加工方法和存储介质
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