薄膜技术

摘要： 小鹏汽车作为强势崛起的三大新能源车企“蔚小理”之一,一直致力于新能源汽车制造的全产业链碳减排。在小鹏广东肇庆基地,涂装车间采用先进前处理薄膜技术使废油漆渣产渣量降低94%,能耗降低25%以上;同时小鹏已实现可回收固体废物利用率100%。但小鹏不止步于此,进一步将低碳理念践行于屋顶之上。2021年11月,小鹏汽车肇庆基地分布式光伏发电项目正式并网发电,至今已稳定运行四个月。

摘要： “薄膜与光学制造技术教育部重点实验室”(简称实验室)是2008年由教育部批准建设的代表性特色平台,主要依托西安工业大学光学工程一级学科和“陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室”。光学工程是西安工业大学最具特色的学科之一,具有60多年的发展历史,于1993年获得硕士研究生培养权,1998年获批为陕西省重点学科,2013年获得博士学位授予权,2014年获批博士后科研流动站;实验室前身为1999年成立的“陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室”。

摘要： 时间:2021年11月15~17日地点:广州琶洲-保利世贸博览馆主办单位:特欧展览(上海)有限公司"2021广州胶粘带与薄膜技术展览会"将于2021年11月15~17日在广州琶洲·保利世贸博览馆隆重举办,展示创新胶粘带&薄膜技术及材料,促进胶粘带行业发展,推进薄膜行业与创新环保相融合。展会致力于打造成为一个胶粘带与薄膜行业一站式商贸平台。主办单位将专业观众邀请放在与展商邀请同等重要的位置,邀请逾数万名软包装印刷、手机、光电.

摘要： 原子频标是典型的量子电子学产物,它可以输出稳定的频率信号,在导航、守时、授时以及通信等国计民生的各个方面都有重要的作用.原子频标制造过程中采用薄膜技术可以有效地提高原子频标的性能和使用寿命.本文首先阐述了传统铷、铯、氢原子频标中薄膜技术的应用,即薄膜技术在铷原子频标中用于光谱灯优化和光频移抑制,以改善铷原子频标的稳定度和漂移;在铯原子频标中用于电子倍增器研制及其新工艺和新方法的研究,用以提高铯束管的寿命和信噪比;在氢原子频标中用于氢原子存储,降低氢原子与泡壁的碰撞概率,延长氢原子弛豫时间,提升信噪比.其次,对汞离子频标、微型CPT原子频标等新型原子频标中薄膜技术的应用和发展进行了梳理和总结,并对下一代星载原子频标中薄膜技术的重要作用和发展进行了展望.

摘要： W.L.Gore&Associates(戈尔公司)宣布,戈尔大众消费类纺织品事业部将开始逐步引入全新材料膨体聚乙烯(ePE),作为其薄膜技术的基础材料。2022年秋冬季起,这种新型薄膜技术将运用于GORE-TEX(戈尔特斯)品牌大众消费类产品。届时,采用新型膨体聚乙烯(ePE)薄膜的面料将应用于众多品牌推出的休闲及泛户外服装、休闲鞋品和雪地运动手套等多种终端用途的服饰和装备上。

摘要： 对光伏电池制造工艺角色转换的内因进行了剖析和讨论,同时,还对光伏电池制造工艺中的网版印刷技术在今后可能遇到的困难、隐忧以及应对的办法给出了有益的建议.

摘要： 在YSZ(100)衬底上,采用脉冲激光沉积法在500°C至700°C的不同沉积温度下生长出尖晶石结构的Mn1.56Co0.96Ni0.48O4(MCNO)薄膜.由于沉积温度是制备高质量薄膜的重要因素,因此本文研究了MCNO薄膜结构、电学和磁学性能随沉积温度的变化.通过对X射线衍射图和原子力显微镜图像的分析,发现MCNO薄膜的结晶与沉积温度有很大关系.随着沉积温度的升高,MCNO薄膜的电阻率呈V型变化,其导电过程可以用小极化子跳跃机理来描述.同时,随温度变化的磁化曲线表明所有样品都显示出从铁磁性到顺磁性的转变,且沉积温度为600°C的MCNO薄膜具有216 K的高居里温度.以上研究结果表明,在600°C沉积的MCNO薄膜具有适用于热敏电阻器件和多功能异质结所需的良好性能.

摘要： 高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。

摘要： 近日,日本电池厂商Solar Frontier在其官网宣布,通过与日本NEDO的联合研究,他们在1cm^2的电池上使用无镉CIS薄膜技术成功实现了23.35%的转换效率;并且该结果已由国家先进工业科学与技术研究院(AIST)在2018年11月进行了独立验证。

摘要： 为满足微波电路中低损耗的使用要求,基于石英基板设计了一款Ka频段石英基板微带探针,应用波导来进行能量传输.分析了该款探针作为波导与微带结构转换的电路设计原理及工艺设计方案.在明确设计结构、工艺方案的基础上,通过实现双面精准对位、改善膜层附着力、改善光刻条件、确保切割质量等方面对石英探针的加工制造进行控制.对探针实物的测试结果满足使用要求,具有良好的应用前景.

摘要： 随着时代变迁，现代人知识水准以及生活品质提高，对於饮用水品质之要求日渐严格。然而，传统处理程序并无法降低总硬度及总溶解固体物的含量，此将直接影响民众饮用水之口感及味觉；另外，对於氨氮、铁及锰含量偏高之水源，使用传统处理方式亦无法提供安全稳定的民生用水。於是，台湾自来水公司为提昇饮用水品质、改善自来水之适饮性，特推动[高雄地区自来水水质改善工程]计划，而於高雄拷潭及翁公园净水场增设薄膜高级净水处理设备，以大幅提升自来水品质，也因此让台湾高雄拷潭净水场成为目前世界上最大的双膜法应用水场，每日最大高级水出水量可达261,000m3。另外，由於薄膜系统采模组化、自动监控、Dead End及四段加压等设计特点，大幅减少占地面积、强化实场薄膜系统操作弹性并增加产水回收率。薄膜技术中，超过滤（Ultrafiltration，UF）系统，可去除水中浮悬固体物、金属氧化物、矽化物、细菌及胶体物质，除可提供安全稳定之水质外，亦可有效防止LPRO膜阻塞；UF系统在实际运转操作上，以再生运转方式搭配适当操作控制与化学药洗机制，可有效减缓UF膜阻塞状况并延长UF系统运转寿命。而低压逆渗透薄膜（Low Pressure Reverse Osmosis，LPRO）系统，除有效降低硬度及总溶解固体量，亦可去除病毒、病原菌及有机物质等，以提供安全稳定之高级水品质并提升饮用水之适饮性。LPRO系统在实际运转操作上，膜管的阻塞情形会随运转时间增加而增加，因此，在实际操作控制管理上，需添加适当之化学药品，以减缓薄膜阻塞，并配合适当之控制及药洗保养程序，以延长LPRO系统之使用寿命。

摘要： 离子束溅射沉积薄膜技术广泛用于高质量半导体薄膜和光学薄膜的制备工艺，在制备过程中生长条件的选取决定了薄膜的质量和性能。本文采用LDJ-2A-F150双离子束溅射系统在宝石衬底上沉积Au膜，通过正交试验设计优化Au膜沉积参数，重点研究了离子束能量，束流和加速电压三个因素。通过对Au膜归一化电阻和室温、低温电阻变化率的正交分析得到：离子束流对归一化电阻和电阻变化率影响最大，并获得了最佳的生长条件。这表明：正交试验设计可以作为双离子束溅射系统参数的有效优化方法，该方法也可用于对光学薄膜制备的参数进行优化。

摘要： 介绍了活性炭吸附、高级氧化、离子交换、增强混凝、生物活性炭与臭氧组合和薄膜技术等给水深度处理技术,并从技术经济角度分析各自的优缺点。列举了部分国家和地区典型的深度净水厂,对其工艺与处理效果进行了论述,指出深度净水工艺已是当前各国改善水质的趋势。

摘要： 在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5°C‰.

摘要： 在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5°C‰.

摘要： 在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5°C‰.

摘要： 在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5°C‰.

摘要： 在原子层沉积系统(Atomic layer deposition) ALD的薄膜生长工艺流程中,关键部分在于对工艺腔室内部温度和压强的控制.由于ALD反应腔内部温度控制具有非线性、滞后性及时变性,本文通过对反应腔采取分区加热的方法,使用西门子TIA博途软件自带的具有抗积分饱和功能的PID控制器,加上前馈补偿PID控制算法,很好地解决了反应腔内温度均匀性这一问题.并通过实验实测数据和仿真,得出整个温度控制范围误差控制在5°C‰.

摘要： 本研究在前期制备的Bi203薄膜的基础上，通过对其在酸性条件下氯化，制备了的BiOCl薄膜。其片状花瓣形微观结构不仅仅增大了表面积，同时也可以使入射光在BiOCl表面多次反射，形成光陷阱，提高光能利用率。rn 所制备的BiOCl薄膜作为光阳极，应用于光催化燃料电池体系中，利用罗丹明B作为“燃料”，分别在紫外光和可见光照射的条件下测定了其光催化降解及产电性能，其库伦转换效率可以分别达到26.2%和24.4%。在紫外光照射的条件下，其开路电压为0.655V,短路电流为0.0116mA/cm2,ff因子0.39。由于BiOCI禁带宽度为3.0eV，其被紫外光激发产生光生电子和空穴，空穴具有极强的氧化能力，而光生电子可以通过外电路转移到Pt阴极，产生电流，同时在阴极还原O2，产生O2·-进一步氧化污染物。而在可见光照射时，其开路电压为0.639V，短路电流为0.0052mA/cm2,ff因子0.18。虽然BiOCl不具有可见光相应，但其吸附的罗丹明B分子可以被可见光激发产生电子，光生电子首先转移到BiOCl导带，进一步转移到阴极产生电流和O2·-。除了罗丹明B，其他染料也被用作“燃料”进行降解产电。据报道平均每天有超过400吨染料在生产，运输和使用的过程中被排放到环境中，基于BiOCl的光催化燃料电池是一种很有前景的处理该类废水并回收能量产电的新技术。

摘要： 一种利用LB膜技术制备柔性反式聚合物分散液晶薄膜的方法，本发明涉及一种制备反式聚合物分散液晶薄膜的方法。本发明要解决现有的柔性R‑PDLC薄膜取向效果不理想，初始透过率低，光学对比度差的问题。方法：一、透明导电柔性基材的预处理；二、LB膜的制备；三、LB膜的转移；四、液晶盒的制备；五、液晶混合物的制备；六、液晶盒灌装；七、紫外诱导相分离。本发明用于利用LB膜技术制备柔性反式聚合物分散液晶薄膜。

摘要： 一种热挤压法制备用于溅射法薄膜镀膜技术的铜靶，其中铜管靶的生产包括通过热挤压和冷拔塑形的铸造铜锭(纯度至少99.99％铜，氧气不超过5ppm)步骤。晶粒尺寸的控制基于动态再结晶机理。因此，控制热铜在挤压模具挤压时立即用水冷却。此技术称为水下挤压技术，它将停止晶粒生长机制。使铜的晶粒尺寸不超过100微米的挤压过程的最佳条件是：(1)对于10英寸铜锭温度为750°C，挤压速度在5～20毫米/秒之间。(2)对于12英寸铜锭温度为750～800°C，挤压速度在5～20毫米/秒之间。挤压后的铜尺寸在冷拔过程再次缩小。控制冷加工缩小量不超过30％，以达到尺寸185×21mm及表面硬度不超过100HV。水下挤压技术能够生产出适合作为用于溅射镀膜技术的铜管靶。

摘要： 一种利用LB膜技术制备柔性反式聚合物分散液晶薄膜的方法，本发明涉及一种制备反式聚合物分散液晶薄膜的方法。本发明要解决现有的柔性R‑PDLC薄膜取向效果不理想，初始透过率低，光学对比度差的问题。方法：一、透明导电柔性基材的预处理；二、LB膜的制备；三、LB膜的转移；四、液晶盒的制备；五、液晶混合物的制备；六、液晶盒灌装；七、紫外诱导相分离。本发明用于利用LB膜技术制备柔性反式聚合物分散液晶薄膜。

摘要： 本发明涉及一种使用薄膜技术制造半导体芯片(1)的方法，其具有以下步骤：将有源的层序列施加到生长衬底(3)上，随后在所述有源的层序列上构造结构化的、反射的导电的接触材料层。接着，将有源的层序列结构化为有源的层堆叠(2)，使得反射的导电接触材料层(4)位于每个有源的层堆叠(2)上。接着柔性的导电膜(6)作为辅助支承层施加到接触材料层(4)并且去除所述生长衬底(3)。

摘要： 本发明涉及一种使用薄膜技术制造半导体芯片(1)的方法，其具有以下步骤：将有源的层序列施加到生长衬底(3)上，随后在所述有源的层序列上构造结构化的、反射的导电的接触材料层。接着，将有源的层序列结构化为有源的层堆叠(2)，使得反射的导电接触材料层(4)位于每个有源的层堆叠(2)上。接着柔性的导电膜(6)作为辅助支承层施加到接触材料层(4)并且去除所述生长衬底(3)。

摘要： 本发明公开了一种有机膜技术与ITO薄膜技术共用掩膜板的方法，包括以下步骤：(1)制作石英基板；(2)对基板进行负性有机膜涂布；(3)对基板进行曝光，曝光时确保半透膜区域不会在显影工艺中溶解；(4)对曝光后的基板进行显影，不透光区域的有机膜被除去；(5)对基板进行ITO沉积镀膜；(6)对基板进行正性光刻胶涂布、曝光；(7)对基板进行显影，铬膜和半透膜区域的光刻胶存在，其余区域的光刻胶被除去；(8)对基板进行蚀刻，形成ITO所需的图案。本发明的方法有效的节省了掩膜板的使用数量，也降低了曝光机的负荷，降低了生产成本。

摘要： 本发明涉及一种具有防止反射功能的光学薄膜技术，包括：S1配置共混聚合物溶液、S2基板清洗、S3旋转涂膜、S4烘干、S5去除PS；所述S1配置共混聚合物溶液：共混溶液的浓度和其中PMMA与PS的比例是影响制得纳米多孔膜微孔结构的很重要的参数，浓度太高，会影响旋涂过程中匀胶的均匀性，增加旋涂后薄膜的表面粗糙度和膜厚，使得薄膜对入射光散射加剧，呈现不透明状态；本发明通过对具有防止反射功能的光学薄膜技术的改进，具有设计合理，入射角度范围大、宽带甚至是超宽带的减反射效果，均一的光谱响应特性，以保证反射、透射光色平衡不被破坏，制备工艺简单、容易存放、切割、运输，优点，从而有效的解决了本发明提出的问题和不足。

摘要： 本发明涉及一种适用于非饱和土壤元素活性态提取的梯度扩散薄膜技术，包括采样器，圆形底座、扩散支架网以及密封盖，在圆形底座上同轴固装圆筒形扩散支架网，扩散支架网上部同轴密封嵌装密封盖，在扩散支架网内缘同轴敷贴扩散膜，扩散支架网的扩散膜内缘同轴滑动安装一压力阀片，在压力阀片与密封盖之间安装一压缩弹簧，在压力阀与底座之间的扩散膜内填充重金属吸收凝胶。本方法制备的DGT可提供无机元素和水两个梯度，使其能够原位在旱作土壤中吸附重金属，大大提升了检测结果的精确性，降低了监测成本，弥补了原有DGT不能在缺水条件下的使用。

摘要： 基于激光切割胶体薄膜技术的柔性透明导电膜及制备方法，涉及一种柔性透明导电膜。柔性透明导电膜包括有柔性透明薄膜基底材料，柔性透明薄膜上表面磁控溅射WO

摘要： 本实用新型公开了一种基于纳米蒸镀金属化薄膜技术的电容，属于电容领域，其技术方案要点是，包括壳体、盖板和电容芯子，电容芯子包括金属化聚丙烯薄膜，金属化聚丙烯薄膜紧密贴合在电容芯子的外表面，且金属化聚丙烯丙膜为双层双面结构，壳体的上部固定连接有盖板，壳体的内部嵌入设置有电容芯子，壳体的内壁紧密贴合有热缩套管，热缩套管的内部贯穿连接有铝壳。该种基于纳米蒸镀金属化薄膜技术的电容，通过金属化聚丙烯薄膜能够增加电容器的抗浪涌电流能力，降低接触损耗，从而能够避免电容器开路或容量大幅度下降的问题。