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胡江川; 王万录; 冯庆; 刘高斌; 吴子华; 葛芳芳;
重庆大学数理学院;
重庆400044;
高反射膜; 抗激光损伤性能; 制备方法; 损伤阈值; 光学薄膜; 激光器;
机译:聚乙烯吡咯烷酮对溶胶-凝胶二氧化硅减反射膜结构和抗激光损伤的影响
机译:YAG激光导光导向抗反射膜的激光损伤
机译:真空中ZrO2 / SiO2多孔高反射膜的激光损伤降解机理
机译:离子清洁的有效性,改善HFO_2 / SiO_2光学涂层的激光损伤阈值,在527nm和1054nm处高反射和抗反射的高反射和抗反射
机译:用于高激光损伤阈值应用的光学结构的纳米力学。
机译:基于聚乙烯醇(PVA)聚合物形状记忆效应的自擦除纳米锥抗反射膜
机译:在高功率应用中,高反射涂层上亚皮秒级激光损伤的增长
机译:二氧化硅覆盖层对HfO(sub 2)-siO(sub 2)56(sup度)入射高反射体激光损伤的影响
机译:抗激光损伤的抗反射膜的形成,并在光学元件表面具有高耐磨性
机译:用于形成抗反射膜的高折射率层的组合物和包含该组合物的包含高折射率的层的抗反射膜
机译:抗反射膜具有较高的激光损伤阈值
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