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脉冲激光沉积c轴取向BiCuSeO外延薄膜及其热电性能

         

摘要

利用脉冲激光沉积技术在SrTiO3单晶基片上制备了BiCuSeO薄膜并详细研究了沉积温度对薄膜晶体结构、微观形貌及热电输运性能的影响.在最佳沉积温度(330℃)下,所制备的BiCuSeO薄膜不含任何杂相且沿c轴取向外延生长,与基片的外延关系为[010]SrTiO3∥[010]Bi-CuSeO和[001]SrTiO3∥[100]BiCuSeO.电学性能测试表明该薄膜在20~350 K内均表现出金属导电特性,室温电阻率仅为12.5 mΩ?cm,远低于相应的多晶块体材料.计算所得的室温功率因子PF约为3.3μW?cm-1?K-2,高于相应的多晶块体材料,表明c轴取向BiCuSeO外延薄膜在薄膜热电器件领域具有重要的应用前景.

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