KrF激光刻蚀制备300 nm自支撑聚酰亚胺膜

刘仁臣; 陆静

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KrF激光刻蚀制备300 nm自支撑聚酰亚胺膜

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本工作探讨了微纳米量级聚酰亚胺(PI)自支撑薄膜的制备。以4,4′-二氨基二苯醚(ODA)和均苯四甲酸二酐(PMDA)为单体合成聚酰胺酸(PAA)溶液。经热亚胺化后脱膜得到厚度为900 nm的自支撑PI薄膜。亚胺化程度用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)测试,表面形貌用透射式显微镜观测。结果显示,在低于250℃下制备的ZnO薄膜适合作为脱膜剂;采用KrF准分子激光对薄膜刻蚀,当能量密度为45 mJ/cm^2时刻蚀110个脉冲,得到了表面平整且厚度为300 nm的自支撑PI薄膜。

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来源
《材料导报》 |2019年第s02期|580-583|共4页
作者
刘仁臣; 陆静;
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作者单位

吉林大学珠海学院物理教学中心;

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正文语种 chi
中图分类干涉与衍射;
关键词
聚酰亚胺; 自支撑; 脱膜; 激光刻蚀;

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