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薄膜抛光实验平台设计开发的研究

         

摘要

薄膜抛光技术是超精密磨削领域中一种新兴的磨削技术.文中以MCS51系列单片机为核心,结合研磨抛光薄膜以及自制便携式抛光机的特点,设计开发了薄膜抛光实验的测力平台.该平台主要用于薄膜抛光过程中磨削力的实时监测,分析磨削力对抛光精度的影响,有助于研究抛光膜损伤机理与磨削力、工艺参数之间的关系.

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