用热灯丝辅助化学汽相沉积法在钼基板上沉积金刚石薄膜的研究

彭希林; 廖传美

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用热灯丝辅助化学汽相沉积法在钼基板上沉积金刚石薄膜的研究

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用热灯丝辅助化学汽相沉积（HFACVD）法，以H2＋CH4为原料在钼基板上沉积出了金刚石膜。用扫描电镜，X射线衍射，激光Raman光谱和光荧光谱对所得金刚石膜进行了分析。实验结果表明，钼基板表面先生成了1层Mo2C，然后，金刚石再在此Mo2C上形核生长。所沉积的金刚石膜中仍含有一定的SP2态碳和中性空缺等缺陷。

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来源
《矿冶》 |1992年第1期|89|共1页
作者
彭希林; 廖传美;
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作者单位

材料研究室;

材料研究室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
金刚石膜; 热灯丝化学汽相沉积; 拉曼光谱; 钼基板; HFACVD;

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