宽台栽培大豆根系特点及施肥位置效应

何庸

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宽台栽培大豆根系特点及施肥位置效应

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根据黑龙江垦区大豆宽台栽培联网试验，以及大豆根系活性在土壤中的动态分布研究优化了大豆的施肥位置，宽台施肥位置为：１．种肥分散在种下２ｃｍ左右，占总肥量的１／４－１／３，用于催苗和壮根；２．基肥施在台上植株行间，深度为５－１５ｃｍ，距两侧主根１５ｃｍ左右，占总肥量的２／３－３／４，用于提高花期，结荚期，鼓粒期的供肥强度。

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来源
《现代化农业》 |1997年第9期|7-9|共3页
作者
何庸;
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作者单位

黑龙江省农垦科学院作物所;

黑龙江省农垦科学院作物所;

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正文语种 chi
中图分类 S565.104;
关键词
大豆; 宽台栽培; 根系活性; 施肥位置; 栽培;

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