基于干法刻蚀技术的氮化镓MEMS加工工艺(英文)

杨振川; 吕佳楠; 闫桂珍; 陈敬

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基于干法刻蚀技术的氮化镓MEMS加工工艺(英文)

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氮化镓(GaN)材料已成功应用于光电子器件、高频功率器件等领域.近年来,由于GaN优异的材料特性,例如机械、热、化学稳定性以及生物兼容性等,使基于GaN的微机电系统(MEMS)得到了学术界的广泛关注.针对氮化镓MEMS结构的有效的图形化及释放技术是工艺研究的重点.设计、采用了一种全干法刻蚀技术,实现了(111)晶向硅衬底上的氮化镓基MEMS微结构的加工制造.利用提出的工艺方案,实现了多种悬浮GaN微结构的加工与测试表征实验.通过电子扫描显微镜(SEM)和光学轮廓仪进行了基本形貌表征;利用微拉曼光谱实验进行了加工结构的残余应力表征.

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来源
《纳米技术与精密工程（英文）》 |2011年第1期|78-82|共5页
作者
杨振川; 吕佳楠; 闫桂珍; 陈敬;
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作者单位

北京大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室;

北京大学微电子学研究院;

香港科技大学电子与计算机工程系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类干法腐蚀工艺;
关键词
干法刻蚀; 氮化镓(GaN); MEMS;

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