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蒸镀法制备纳米晶Be薄膜及微观组织演化研究

         

摘要

采用蒸镀法在Si(001)基片上制备晶粒尺寸35 nm,RMS表面粗糙度优于11nm的Be薄膜.蒸发温度由1 050℃升高至1 150℃时,Be薄膜表面形态由细小等轴晶(1 050~1 070℃)→纤维晶(1 080~1 110℃)→粗大等轴晶(1 120~1 130℃)→粗大纤维晶(1 150℃),其表面粗糙度先增加后略微下降.XRD分析结果表明:不同蒸发温度下沉积Be薄膜均主要由hcp结构的(αBe)相组成,其表面显露晶面随温度增加由(002)向(100)晶面转变.Be原子沉积速率随温度增加呈现指数函数关系增大.实验结果显示:采用水冷Si基片并控制原子沉积速率在2.3 nm/min,能够制备出单相(αBe)纳米晶薄膜.%A nanocrystalline Be films with a grain size of 35 ran and root mean square ( RMS) roughness of 11 nm were fabricated by an evaporation method. As the temperature increases from 1 050℃ to 1 150℃, the morphology of Be film shows a transition form a small equiaxed grain (1 050 ~ 1 070℃), a fibrous crystal (1 080 ~ 1 110℃) , a large equiaxed grain (1 120 ~ 1 130℃ ) to a large fibrous crystal (1 150℃), and the RMS roughness enhances firstly and then decreases slightly. X-ray diffraction analysis indicates that the Be films at different deposition conditions consist of hep structure α - Be phase, its primary crystal plane on the film surface changes from (002) to plane with the increase of evaporation temperature. The deposition velocity of Be atom enhances as an exponential function of evaporation temperature. It was found that, if we use Si substrate cooled by the circulation water and can accurately control the deposition velocity at 2.3 nm/min, the nanocrystalline Be films with a single α - Be phase can be fabricated.

著录项

  • 来源
    《核电子学与探测技术》 |2012年第12期|1409-1412|共4页
  • 作者单位

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

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    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 纯金属的组织与相结构;
  • 关键词

    蒸镀法; 晶粒细化; 铍薄膜; 纳米晶;

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