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CMOS器件预辐照筛选可行性及方法研究

         

摘要

预辐照筛选成功的关键取决于预辐照后器件损伤的可恢复性及再次辐照时器件损伤的可重复性.通过对CMOS器件进行大量不同条件下的60Co γ总剂量辐照实验和退火实验,探讨了能使器件预辐照后的损伤得到尽可能大地恢复的辐照、特别是退火条件,并通过反复达4次的CC4007器件"辐照-退火-辐照"试验,研究了CMOS器件退火后再次辐照时电参数变化的可重复性.

著录项

  • 来源
    《核电子学与探测技术》 |2006年第4期|470-473,495|共5页
  • 作者单位

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院新疆理化技术研究所,新疆乌鲁木齐,830011;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 场效应型;
  • 关键词

    CMOS; 预辐照; 筛选; 退火;

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