双模测量法消除编码孔成像的近场伪影

肖洒; 兰明聪; 党晓军; 张连平; 韦孟伏

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双模测量法消除编码孔成像的近场伪影

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在编码孔成像技术中,由于存在近场伪影的干扰,降低了重建图像质量.为了消除这一影响,本文通过分析近场伪影的产生和消除原理,采用Geant4程序模拟了近场条件下300 keV单能γ源,通过MURA(19×19)嵌套编码孔成像,分别获得了单模和双模测量条件下重建得到的源分布图像.结果显示,单模测量得到的图像带有显著的近场伪影,而双模测量得到的图像中近场伪影得以消除.实际γ相机测量实验也获得了类似的结果.因此,与传统的单模测量法相比,双模测量法可以有效抑制和消除编码孔成像中的近场伪影,从而增强图像信噪比.

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来源
《核技术》 |2013年第8期|43-47|共5页
作者
肖洒; 兰明聪; 党晓军; 张连平; 韦孟伏;
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作者单位

中国工程物理研究院绵阳621900;

中国工程物理研究院绵阳621900;

中国工程物理研究院绵阳621900;

中国工程物理研究院绵阳621900;

中国工程物理研究院绵阳621900;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类原子能技术的应用;
关键词
双模测量法; 编码孔成像; 近场伪影; Geant4;

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