基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计

著录项

• 来源
  《核技术》 |2008年第6期|415-419|共5页
• 作者

  朱伟忠; 吴衍青; 史沛熊; 郭智; 邰仁忠; 徐洪杰;

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• 作者单位

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

  丹麦科技大学,哥本哈根,2800;

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

  中国科学院上海应用物理研究所,上海,201800;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 干涉与衍射;
• 关键词

  软X射线透射光栅; 衍射效率; 高级硅刻蚀; 硅氧化工艺; 严格耦合波方法; 软X射线干涉光刻;