50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计

著录项

• 来源
  《核技术》 |2004年第5期|321-324|共4页
• 作者

  谢常青; 陈大鹏; 李兵; 叶甜春; 伊福廷; 彭良强; 韩勇; 张菊芳;

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• 作者单位

  中国科学院微电子研究中心,北京,100010;

  中国科学院微电子研究中心,北京,100010;

  中国科学院微电子研究中心,北京,100010;

  中国科学院微电子研究中心,北京,100010;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100039;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100039;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100039;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100039;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  X射线光刻; 同步辐射; 束衍生法; 光刻分辨率;