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电子束在MOS结构中的能量沉积与辐照效应

         

摘要

根据电子输运“双群理论”计算出电子在Si-SiO2材料中的能量沉积。用与硅等2效的外推电离室测定了1.0MeV和1.5MeV的电子束在MOS电容芯片中的吸收剂量。用X光电子谱、俄歇谱、深能级瞬态谱和C-V方法测量分析了MOS电容Si-SiO2材料化学结构,界面态密度和C-V曲线在辐射前后的变化,根据理论和实验结果,从辐射剂量学的角度分析讨论了电子能量沉积,电离缺陷和辐射效应间的关系,并提出一个关于

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