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张玲花;
机译:纳米形貌对化学机械抛光的影响-抛光深度,抛光垫,浆料和中间膜的依赖性
机译:纳米复印件对化学机械抛光抛光深度,垫,浆料和层间胶片依赖性的影响
机译:纳米胶体水力空化射流抛光技术的初步研究
机译:通过磁浮法抛光(MFP)精加工用于轴承的高级陶瓷球,包括精细抛光,然后进行化学机械抛光(CMP)。
机译:复合材料(微填充纳米填充和硅烷)在不同抛光和抛光步骤后的粗糙度分析
机译:用于对非球面透镜模具芯抛光的流体射流抛光系统的路径控制
机译:用于TEm箔的射流电解抛光的改进方法和新技术。
机译:住宅混凝土地基的装修形式与住宅的混凝土地基的装修形式装置和住宅混凝土地基的装修形式装置
机译:化学机械晶圆抛光垫具有弯曲凹槽的角度和深度,该曲线和深度由流线型凹槽功能的边界层效应计算得出,用于设计抛光垫的最佳结构
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