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吴秀丽;
无;
光刻; 紫外波段; 激光; 变焦距; 显微镜;
机译:激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:显微镜用13.2 nm台式激光照射的极紫外光刻掩模
机译:显微镜用13.2 nm桌面激光照明的极紫外光刻掩模
机译:基于激光的航空显微镜用于极端紫外光刻掩模的波长表征
机译:台式,全视野,光化显微镜,用于极端紫外线光刻掩模表征。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:对紫外,可见波段和近红外波段的风相关激光雷达探测范围的比较分析
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性
机译:用于光学测试和测量系统的晶片的多波段紫外线照射的方法和系统,该系统采用显微镜,并通过显微镜对晶片图像进行了特殊数据处理
机译:MSM型紫外线接收元件和MSM型紫外线接收装置
机译:MSM型紫外线受光元件,MSM型紫外线受光装置
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