用于同步辐射全息掩模离子刻蚀光栅的制造

王春霞

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用于同步辐射全息掩模离子刻蚀光栅的制造

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在X射线和真空紫外波段使用的衍射光栅产品中,要求光栅的表面、光栅常数、刻槽轮廓的精度必须非常高.卡尔·蔡司厂使用了毫微米技术,如机械刻划、全息照相记录、全息照相象差校正和离子刻蚀技术.应该说,这是对于紫外和红外光谱波段高质量衍射光栅十年生产经验的总结.生产工艺中存在的问题也正在进行改进.新技术能保证用最有效的技术生产光栅.

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来源
《光机电信息》 |1996年第6期|21-24|共4页
作者
王春霞;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TH740.6;
关键词
同步辐射; 离子刻蚀; 衍射光栅; 制造;

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