等离子体蚀刻及其表面反应

机译：O原子在氢化非晶碳膜的大气等离子体蚀刻过程中的运输和表面反应性

机译：XeF_2与氟化Si（100）反应的机理和动力学：表面反应产物的气相离解在无等离子体蚀刻中的可能作用

机译：干法蚀刻技术的现状和未来的前景从开发和设备/工艺的理解到下一阶段需要对等离子体/表面反应的定量理解

机译：逼真的表面反应建模，用于基于碳氟化合物的等离子体蚀刻工艺的3D特征轮廓模拟

机译：等离子体蚀刻工艺中的表面反应机理。

机译：NF3和F3No等离子体的氧化硅蚀刻方法具有残余气体分析仪

机译：箱式室内NF3气等离子体的NF3气体压力和SiC对SiC表面反应离子蚀刻的影响

机译：用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。

机译：等离子体蚀刻装置的等离子体蚀刻装置，等离子体蚀刻方法及等离子体清洗方法

机译：等离子体蚀刻设备，等离子体蚀刻方法和半导体器件制造方法，包括等离子体蚀刻方法

机译：在等离子体蚀刻装置的模拟装置中，该模拟蚀刻装置与处理等离子体的等离子体蚀刻装置接合在一起