迷彩伪装的高光谱特性分析

杨佳; 华文深; 刘恂; 马左红

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迷彩伪装的高光谱特性分析

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现代战争中,高光谱成像技术开始应用于伪装目标识别.为了加强对高光谱图像的信息挖掘,确定可以用来进行伪装识别的目标高光谱特征,对高光谱成像条件下的迷彩伪装特性及影响伪装效果的因素进行了综合分析.在光谱维,从高光谱图像中直接提取光谱曲线,确定了图像对比度高、迷彩伪装特征明显的光谱波段为650～740 nm、780～800 nm.利用光谱角进行相似度计算,分析了阴影对光谱曲线的影响.在空间维,通过主成分分析和灰度共生矩阵的计算,得出了迷彩伪装纹理具有均匀性好、相关性强、复杂程度低等特点.研究结果为迷彩伪装的设计及识别提供了理论参考.

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来源
《光学仪器》 |2013年第5期|27-31|共5页
作者
杨佳; 华文深; 刘恂; 马左红;
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作者单位

军械工程学院,河北石家庄050003;

军械工程学院,河北石家庄050003;

军械工程学院,河北石家庄050003;

中国人民解放军73101部队,江苏徐州221000;

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正文语种 chi
中图分类伪装;
关键词
迷彩伪装; 高光谱成像; 光谱特性; 纹理特性;

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