微光学自适应技术中基于PZT薄膜的微反射镜工艺研究

张巍; 娄迪; 叶辉; 白剑; 杨国光

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微光学自适应技术中基于PZT薄膜的微反射镜工艺研究

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介绍了微光学自适应技术中基于PZT(PbZrxTi1-xO3)薄膜的微反射镜单元及其制作工艺.该制作过程中用重掺杂硅片作为基底和下电极,采用了钛酸丁脂[(C4H9O)4Ti]、乙酸铅[Pb(CH3COO2)·3H2O]以及异丙醇锆[Zr(OCH(CH3)24·(CH3)2CHOH]为原料,通过溶胶-凝胶法(sol-gel)制作薄膜,薄膜厚度为纳米级.制成的PZT薄膜通过逆压电效应产生形变,对反射镜面局部进行微调,实现波前位相控制.

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来源
《光学仪器》 |2006年第3期|81-85|共5页
作者
张巍; 娄迪; 叶辉; 白剑; 杨国光;
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作者单位

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

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正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
自适应光学; 微反射镜; PZT薄膜; 逆压电效应;

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