离子束刻蚀光学薄膜的速率定标技术

著录项

• 来源
  《光学仪器》 |2004年第2期|79-82|共4页
• 作者

  林炳; 刘定权; 张凤山;

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• 作者单位

  中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083;

  中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083;

  中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 薄膜物理学;
• 关键词

  膜厚测量; 离子束刻蚀; 数据拟合; 光学薄膜;