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乐永康;
复旦大学物理系,上海,200433;
立方氮化硼; 傅里叶变换红外光谱; 俄歇电子能谱; 光学应用;
机译:等离子体压缩化学气相沉积制备立方晶氮化硼薄膜中残余压缩应力引起的六方氮化硼红外吸收频移
机译:等离子体增强化学气相沉积制备立方立方氮化硼薄膜的残余压应力和红外吸收强度
机译:离子束辅助脉冲Nd:YAG激光沉积制备立方氮化硼薄膜
机译:制备多层立方氮化硼薄膜和类sp(3)氮化硼薄膜的各种制造方法的研究。
机译:电镀法制备立方氮化硼晶粒表面镍刺的制备及表征
机译:立方氮化硼薄膜生长过程中去除sp2-氮化硼过渡层
机译:离子辅助脉冲激光沉积法制备立方氮化硼薄膜的成核与生长
机译:立方氮化硼烧结体,涂覆的立方氮化硼烧结体,制备立方氮化硼烧结体的方法和制备立方氮化硼烧结体的方法
机译:立方氮化硼薄膜和立方氮化硼薄膜的制造方法
机译:具有减小的残余压缩应力的制造立方氮化硼薄膜的方法和由此制造的立方氮化硼薄膜
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