首页> 中文期刊> 《光学仪器》 >离子辅助镀膜

离子辅助镀膜

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

离子辅助淀积技术是目前一种新颖的真空镀膜技术,它的发展历史不长,但已经受到各方面的关注。离子辅助镀膜在光学工业中的推广应用,将使薄膜制备技术进入一个新的发展阶段。

著录项

来源
《光学仪器》 |1990年第4期|12-16|共5页
作者
周鹏飞; 高杨;
展开▼
作者单位

不详;

不详;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类薄膜技术;
关键词
离子镀; 真空镀膜; 光学薄膜;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 等离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用 [J] . 哈哥顿哈洛 . 光学仪器 . 2004,第002期
2. 射频离子束辅助溅射镀膜设备的研制 [J] . 陈特超 ,龙长林 ,胡凡 . 电子工业专用设备 . 2013,第011期
3. 离子束辅助沉积（IAD）真空镀膜技术研究 [J] . 杨伟声 . 云光技术 . 2009,第001期
4. 离子束辅助沉积（IAD）真空镀膜技术研究（续） [J] . 杨伟声 . 云光技术 . 2009,第002期
5. End—Hall离子源及其辅助镀膜技术 [J] . 苗静 . 西安工业大学学报 . 2007,第5期
6. 辅助镀膜用K系列强流宽束考夫曼离子源 [C] . 冯毓材 ,冯隽 ,刘强 . 2006光学、激光、红外技术学术交流会 . 2006
7. 用霍尔无栅离子源进行离子束辅助镀膜的研究 [A] . 秦君军 . 2003

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号