高沉积率激光金属沉积Inconel 718的孔隙率控制

仲崇亮; 付金宝; 丁亚林; Andres Gasser

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高沉积率激光金属沉积Inconel 718的孔隙率控制

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为降低高沉积率激光金属沉积(Laser Metal Deposition,LMD)工艺中材料的孔隙率,研究了以镍基高温合金Inconel 718(IN718)为粉末沉积材料的高沉积率LMD工艺中主要工艺参数对材料孔隙率的影响,以及通过调整工艺参数降低材料孔隙率的方法.以目标沉积率为2 kg/h的LMD工艺为基础,通过参数固化和分离的手段开展了高沉积率LMD的镀层实验,研究了主要工艺参数即激光功率、扫描速度及送粉量对LMD镀层材料孔隙率的影响,分析了不同参数下各镀层的横截面孔隙率及镀层孔隙率.实验显示:当激光功率从1 440 W增加到4 214 W时,镀层材料的孔隙率从约1.5％降低至0.02％左右;当扫描速度为500 mm/min至5 000 mm/min时,镀层材料孔隙率始终保持为0.07％至0.18％左右;当送粉量从0.64 kg/h增加至6.48 kg/h时,镀层材料孔隙率从约0.01％增加至0.84％左右.可见在高沉积率LMD工艺中,扫描速度对材料孔隙率无明显影响,而提高激光功率、限制送粉量均可有效降低LMD材料孔隙率,提高横截面孔隙率的一致性.

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来源
《光学精密工程》|2015年第11期|3005-3011|共7页
作者
仲崇亮; 付金宝; 丁亚林; Andres Gasser;
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作者单位

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;

中国科学院大学,北京100049;

Fraunhofer激光技术研究所,Germany Aachen 52074;

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033;

中国科学院大学,北京100049;

Fraunhofer激光技术研究所,Germany Aachen 52074;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类激光焊;熔焊;
关键词
激光加工; 激光金属沉积; 增材制造; 孔隙率; Inconel 718;
入库时间 2023-07-25 12:26:40

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