检测薄膜压电形变的双光束探测干涉仪的设计

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• 来源
  《光电工程》 |2002年第5期|45-48|共4页
• 作者

  黄傲; 施柏煊; 陈王丽华;

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• 作者单位

  浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

  浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

  香港理工大学应用物理系,香港;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TH744.3;
• 关键词

  双光束干涉仪; 压电效应; 弯曲效应; 薄膜测量;