新型CIGS阻挡层多横向界面Mo的特性及对器件性能的影响

著录项

• 来源
  《光电子．激光》 |2018年第2期|129-132|共4页
• 作者

  李博研; 刘芳芳; 孙云; 林列;

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• 作者单位

  南开大学现代光学研究所;

  光信息科学技术教育部重点实验室;

  天津300071;

  天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室;

  天津300071;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光纤元件;
• 关键词

  Cu(In; Ga)Sez(cIGs); 多横向界面Mo薄膜(M-Mo); 单横向界面Mo薄膜(S-Mo); Fe; 扩散;