平面光波回路用均匀折射率厚SiO2膜制备技术研究

著录项

• 来源
  《光电子．激光》 |2004年第z1期|186-187|共2页
• 作者

  李健; 安俊明; 郜定山; 夏君磊; 李建光; 王红杰; 胡雄伟;

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• 作者单位

  中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083 中国科学院半导体研究所;

  光电子研究发展中心;

  北京;

  100083;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光电子技术、激光技术;
• 关键词

  硅基二氧化硅; 阳极氧化; 光波导; 折射率;